Proje özeti
Bu çalışmanın amacı, yerinde kimyasal yıkama (ISCF) ve yerinde kimyasal oksidasyon (ISCO) olarak bilinen iki teknolojinin NAPL ile kirlenmiş akiferlerin ıslahında birlikte kullanımını araştırmaktır. Çalışmanın hedefi iki teknolojinin birleştirilmesi ile ortaklaşa bir etki yaratılabildiğinin ispatlanmasıdır.